硅的污染及处理:
硅化合物污染发生在强碱阴离子交换器中,尤其是在强、弱型阴树脂联合应用的设备和系统中,其结果往往导致阴离子交换器除硅效率下降。
阴床的强碱树脂再生不当、失效的树脂未及时再生或阴树脂再生不彻底,会发生硅酸在树脂颗粒内部聚合的现象,而难以再生,这种现象是硅在树脂内的积聚,不属于硅的污染。硅的污染是指再生过程中,已从树脂上再生出来的硅酸盐,由于再生液pH值的降低,大量的硅酸以胶体状态析出,严重时再生液可以变成胶冻状,被覆于树脂表面,影响树脂的交换容量,并造成出水SiO2含量增高。
顺流再生固定床和移动床一般不会发生硅的污染。硅的污染主要发生于原水中硅的含量与总阴离子含量(不包括碱度)比值高的对流再生单床,尤其是在弱、强型阴离子交换树脂联合应用的设备和系统中。
清洗二氧化硅污染可用烧碱,建议用量为130 ~ 160 g/L,浓度为2.0 %,处理温度为50℃~60℃。树脂床须先浸泡,如条件不允许,可将溶液以2个床体积/小时的流速通过树脂床,这方法的关键是保持较高温度及接触时间。
一、产品简介:
本产品具有大孔结构,能交换吸附尺寸较大的离子和分子,具有更好的物理及化学稳定性、耐渗透应力、耐磨损能力以及抗氧化能力等。能在非水介质中使用。
本产品相当于美国:(美)Amberlyst-15 ;(日)Diaion HPK-16
二、结构式:
三、理化性能指标:
项 目
产 品 规 格
树脂结构
苯乙烯-二乙烯苯
外观
浅驼色不透明球状颗粒
功能基团
-SO3H
质量全交换容量(干)(mmol/g)
≥4.4
体积全交换容量(湿)(mmol/ml)
≥1.40
粒度(0.315-1.25)mm
≥95%
含水量(%)
45.0-55.0
湿真密度(g/ml)
1.20-1.30
湿视密度(g/ml)
0.70-0.80
强度(磨后圆球率)
≥90%
转型膨胀率(%)
Na+→ H+
9-10
出厂形式
Na+
四、使用时参考指标:
项 目
参 考 值
PH使用范围
1-14
较高使用温度°C
氢型
100
钠型
120
运行流速m/h
15-30
再生液浓度
HCl:4-5%; NaOH:4-5%
五、用途:
**反应催化,高速混床水处理等。
公司拥有整洁的工作环境,环境达到ISO14001标准要求。服务周到,开设24小时技术服务热线,能及时有效地为客户提供满意的服务,真正实现对各用户在产品质量、品种、交货期和售后服务等方面的承诺。
公司具有先进的生产技术、管理水平和较高的自动化水平,拥有健全的质保体系,质量全面按照ISO9001(CQC)质量体系要求,达到国内测试标准,并多次获得省、市级表彰。